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• 감광액, 感光液, photoresist

  제거함으로써 웨이퍼 위에 원하는 감광액 패턴만을 남길 수 있다. 감광액은 빛에 노출된 부분이 제거되느냐, 노출되지 않는 부분이 제거되느냐에 따라 포지티브(positive) 및 네거티브(negative) 형으로 분류된다. 미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 막이 얇고 균일하며, 자외선 등에 대한 감도가 좋아야 한다.